Pat

J-GLOBAL ID：200903056493596544

耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法

Inventor： 山岡 亜夫 ,  藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992310147
Publication number (International publication number)：1994161110
Application date： Nov. 19, 1992
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】 ポリイミド前駆体に特定のビニルエーテル化合物、および活性光線の照射によって酸性を呈する光分解性プロトン発生剤を含有させることによって、未露光部分のポリイミド前駆体のカルボキシル基を保護してアルカリ溶解性を低下させる。露光部分は脱保護化してアルカリ現像液に対して再溶解性となり、良好な溶解性コントラストが得られる。

Claim (excerpt)：

下記(化1)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体と、【化1】下記(化2)または(化3)にて示されるビニルエーテル化合物と、【化2】【化3】活性光線の照射によって酸性を呈する化合物、とを含有してなる耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027