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J-GLOBAL ID：200903056501448061

光触媒体、光触媒装置及び収容装置

Inventor：
緒方 四郎

About 緒方 四郎

, 
園元 和彦

About 園元 和彦


Applicant, Patent owner：
株式会社タオ

About 株式会社タオ

, 
日立金属株式会社

About 日立金属株式会社


Agent (1)： 竹本 松司 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998313941
Publication number (International publication number)：1999216365
Application date： Oct. 19, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】 基体の表面積を拡大すると共にその表面に形成した光触媒機能層をほぼ均等に活性化することができ、かつ、流体と光触媒半導体との接触効率を高くした光触媒体およびこれを用いた光触媒装置の提供。【解決手段】 基体2の表面に表面積を増大するための粒子3を積層して固定し、粒子3の表面に光触媒機能層を形成してあり、前記粒子3は基体側が密に基体2から離れるにしたがって粗に積層する。固液分離のフィルターとしても利用するときは逆に基体側が粗で基体から離れた側を密に構成することがある。
Claim (excerpt)：
基体の表面に表面積を増大するための粒子を積層して固定し、粒子の表面に光触媒機能層を形成してあり、前記粒子は基体側が密に基体から離れるにしたがって粗に積層されていることを特徴とした光触媒体。
IPC (7)：
B01J 35/02 ,  B01D 39/14 ,  B01J 19/12 ,  B01J 35/06 ,  B01J 37/02 301 ,  B32B 3/14 ,  B32B 5/14
FI (7)：
B01J 35/02 J ,  B01D 39/14 B ,  B01J 19/12 Z ,  B01J 35/06 D ,  B01J 37/02 301 E ,  B32B 3/14 ,  B32B 5/14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (18)
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