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J-GLOBAL ID：200903056544532716

微細構造体及びその製造方法

Inventor： 石田 方哉
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999262663
Publication number (International publication number)：2001085666
Application date： Sep. 16, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 安定して製造される微細構造体を提供する。【解決手段】 基材10と、該基材上10にアミノ基あるいはチオールを有する有機化合物からなる極薄膜パターン20と、該極薄膜パターン20に基づいた層パターン22を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基材と、該基材上にアミノ基あるいはチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターンと、該極薄膜パターンに基づいた層パターンを有することを特徴とする微細構造体。

IPC (2)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/30 502 D

F-Term (3)：

5F046AA28 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27