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J-GLOBAL ID:200903056557953540

塗料組成物及び塗膜形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994237237
Publication number (International publication number):1996100149
Application date: Sep. 30, 1994
Publication date: Apr. 16, 1996
Summary:
【要約】【目的】 耐酸性雨対策における脱メラミン硬化系塗料における塗膜形成時のオーバーベークによる塗膜の耐黄変性及び塗料の貯蔵安定性を向上させる。【構成】 カルボキシル基とカルボン酸(ハーフ)エステル基とを有するポリマー/水酸基とエポキシ基とを有するポリマー、必要に応じて特定の水酸基とカルボキシル基とを有するポリマーを含有する硬化性樹脂組成物を固形分換算で100重量部に対してホスファイト化合物0.1〜5重量部、必要に応じてオキシ酸を0.1〜5重量部含有させた塗料組成物及び該塗料を用いた塗膜形成方法。【効果】 耐酸性雨対策塗料としての基本的性能を損なわず、塗膜形成時のオーバーベークによる耐黄変性及び塗料の貯蔵安定性の向上が可能となる。
Claim (excerpt):
下記〔I〕及び〔II〕を含有することを特徴とする塗料組成物。〔I〕下記(A)〜(D)を含有する硬化性樹脂組成物 100固形分重量部(A)(i)(1)酸無水物基含有エチレン性不飽和モノマー15〜40重量%と(2)他の共重合可能なエチレン性不飽和モノマー60〜85重量%とを共重合させることにより得られる酸無水物基含有ポリマーと、(ii)1〜12個の炭素原子を含有するモノアルコールとを、酸無水物基と水酸基とがモル比で1/10〜1/1となる割合の量で反応させることにより得られる、カルボキシル基とカルボン酸エステル基とを有するポリマー20〜60重量%:および(B)(i)式(I)【化1】〔式中、Rは水素原子またはメチル基であり、Xは直鎖又は分岐のアルキル又はヒドロキシアルキル、mは2〜8の整数であり、nは3〜7の整数であり、qは0〜4の整数である〕で示される構造を有する水酸基含有エチレン性不飽和モノマー5〜60重量%、(ii) エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマー10〜60重量%、並びに必要に応じて (iii)他の共重合可能なエチレン性不飽和モノマー0〜85重量%、を共重合することにより得られる、水酸基とエポキシ基とを含有するポリマー30〜60重量%:並びに必要に応じて下記(C)及び/又は(D)により得られる、水酸基とカルボキシル基とを有するポリマー5〜50重量%(ポリマーの重量%は樹脂組成物の固形分総重量に基づく):(C)(i)該水酸基含有エチレン性不飽和モノマーと酸無水物基含有化合物とを水酸基と酸無水物基とが1/0.9〜1/0.5のモル比となる割合の量で混合して反応させることにより得られるカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマーと水酸基含有エチレン性不飽和モノマーとのモノマー混合物20〜100重量%、および必要に応じて(ii) 共重合可能なエチレン性不飽和モノマー0〜80重量%、を共重合させることにより得られる、水酸基とカルボキシル基とを有するポリマー(D)(ii) 式(II)【化2】〔式中、R1 はメチル、フェニルまたはフェニルエチル基であり、R2 およびR3 は、独立して、メチル、フェニル、フェニルエチル、3-ヒドロキシプロピルまたは3-(ヒドロキシエトキシ)プロピル基であり、R4 はメチル、3-ヒドロキシプロピルまたは3-(ヒドロキシエトキシ)プロピル基であり、R5 はメチル、フェニル、フェニルエチルまたはイソブチル基であり、lは1〜20の整数であり、mは2〜4の整数であり、nは0〜2の整数である〕で示される構造を有する化合物からなる群から選択された少なくとも1種である、1分子内に平均で3〜12個の水酸基を有する水酸基含有シリコーンポリマーと、(ii) 酸無水物基含有化合物とを、水酸基と酸無水物基とが1/1.0〜1/0.2となる割合の量でハーフエステル化反応させることにより得られる、水酸基とカルボキシル基とを有するシリコーンポリマーただし(C),(D)を不要の場合は、(A)100固形分重量部に対して(B)50〜250重量部〔II〕ホスファイト化合物0.1〜5固形分重量部
IPC (4):
C09D133/04 PGE ,  C09D133/04 PGB ,  B05D 1/36 ,  B05D 7/24 301
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平3-287650

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