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J-GLOBAL ID：200903056567839118

フルオレン誘導体の製造法

Inventor：
山田 光昭

About 山田 光昭

, 
山田 昌宏

About 山田 昌宏

, 
須田 康裕

About 須田 康裕


Applicant, Patent owner：
大阪瓦斯株式会社

About 大阪瓦斯株式会社


Agent (1)： 三枝 英二 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998370693
Publication number (International publication number)：2000191577
Application date： Dec. 25, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：
【要約】【課題】9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの新規な製造法を提供する。【解決手段】M<SP>n+</SP><SB>x/n</SB>(Al<SB>4-x</SB>Mg<SB>x</SB>)Si<SB>8</SB>O<SB>20</SB>(OH)<SB>4</SB>・yH<SB>2</SB>O (1)〔式中、Mは金属原子または水素原子を示し、0<x<4、nは正の整数を示し、yは0以上である。〕で表されるモンモリロナイトの層間に存在するM<SP>n+</SP>がアルミニウム、チタン、鉄、スズ、タングステン及び銅よりなる群から選ばれる元素のカチオンの1種以上でイオン交換された触媒の存在下、フルオレノンとフェノキシエタノールを反応させることを特徴とする9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの製造方法。
Claim (excerpt)：
下記一般式(1) M<SP>n+</SP><SB>x/n</SB>(Al<SB>4-x</SB>Mg<SB>x</SB>)Si<SB>8</SB>O<SB>20</SB>(OH)<SB>4</SB>・yH<SB>2</SB>O (1)〔式中、Mは金属原子または水素原子を示し、0<x<4、nは正の整数を示し、yは0以上である。〕で表されるモンモリロナイトの層間に存在するM<SP>n+</SP>がアルミニウム、チタン、鉄、スズ、タングステン及び銅よりなる群から選ばれる元素のカチオンの1種以上でイオン交換された触媒の存在下、フルオレノンとフェノキシエタノールを反応させることを特徴とする9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの製造方法。
IPC (5)：
C07C 41/06 ,  B01J 21/16 ,  B01J 31/26 ,  C07C 43/23 ,  C07B 61/00 300
FI (5)：
C07C 41/06 ,  B01J 21/16 Z ,  B01J 31/26 Z ,  C07C 43/23 D ,  C07B 61/00 300
F-Term (32)：
4G069AA08 ,  4G069BC16A ,  4G069BC16B ,  4G069BC22A ,  4G069BC22B ,  4G069BC31A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069CB69 ,  4H006AA02 ,  4H006AC25 ,  4H006BA05 ,  4H006BA06 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA30 ,  4H006BA33 ,  4H006BA52 ,  4H006BA55 ,  4H006GP03 ,  4H006GP10 ,  4H039CA40 ,  4H039CA41 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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