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J-GLOBAL ID：200903056573070306

照射装置用ターゲット、および照射装置

Inventor：
梅野 誠

About 梅野 誠


Applicant, Patent owner：
三菱重工業株式会社

About 三菱重工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001017243
Publication number (International publication number)：2002221600
Application date： Jan. 25, 2001
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】ターゲット部内の鉛ビスマスの凝固を阻止する。【解決手段】鉛ビスマス(PbBi)に放射線を照射する照射装置に用いられ、鉛ビスマスをその内部に導入してターゲットを形成する照射装置用ターゲット7であって、その外周を、鉛ビスマスを加熱するためのHeガスを導入するHeガス導入路32を備えた加熱ジャケット30で覆い、Heガス導入路32にHeガスを供給する。
Claim (excerpt)：
ターゲットである液体金属に放射線を照射する照射装置に用いられ、前記液体金属をその内部に導入して前記ターゲットを形成する照射装置用ターゲットであって、前記内部に導入した液体金属を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする照射装置用ターゲット。
IPC (6)：
G21K 5/08 ,  G01M 3/40 ,  G21F 9/00 ,  G21G 1/06 ,  G21K 5/02 ,  H05H 3/06
FI (6)：
G21K 5/08 N ,  G01M 3/40 G ,  G21F 9/00 N ,  G21G 1/06 ,  G21K 5/02 N ,  H05H 3/06
F-Term (6)：
2G067AA01 ,  2G067CC05 ,  2G067DD22 ,  2G067DD23 ,  2G085BE10 ,  2G085EA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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