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J-GLOBAL ID：200903056578245244

荷電粒子ビーム装置

Inventor： 平本 和夫 ,  田所 昌宏 ,  廣田 淳一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995261605
Publication number (International publication number)：1997099108
Application date： Oct. 09, 1995
Publication date： Apr. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】 荷電粒子ビームの強度に時間的な強弱が生じても目標を均一に照射したり所望の分布で照射量を制御する。【解決手段】 出射される荷電粒子ビームを所要範囲の目標に走査しながら照射する荷電粒子ビーム装置において、荷電粒子ビームの強度の時間変化N(t)を測定し、荷電粒子ビームの走査速度をv(t)と表したときN(t)/v(t)が一定または予め定めた範囲内となるように走査速度を制御する。これにより、荷電粒子ビームの強度が時間的に変動した場合でも、照射目標を一様あるいは所要の線量分布で照射でき、荷電粒子ビーム強度を時間的に一定にするための装置が不要になり、システム全体を低コスト化できる。

Claim (excerpt)：

出射される荷電粒子ビームを所要範囲の目標に走査しながら照射する荷電粒子ビーム装置において、荷電粒子ビームの強度の時間変化を測定する強度測定手段と、該強度の測定値に比例して荷電粒子ビームの走査速度を制御する制御手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

FI (2)：

A61N 5/10 D ,  A61N 5/10 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表平4-506566
  
• 特公昭61-015707
  
• 特公昭62-005630