Pat

J-GLOBAL ID：200903056593554008

光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法

Inventor： 藤倉 貞雄 ,  岩崎 政幸
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992149395
Publication number (International publication number)：1993341532
Application date： Jun. 09, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プリント基板の製造において広範囲の露光・現像条件範囲にわたり、実質的に高い解像度を維持することが可能な光重合性樹脂材料を提供する。【構成】 光重合性樹脂材料が、少なくとも、(1)支持体、(2)該支持体上に設けた膜厚=0.1〜5μmの中間層、(3)該中間層上に設けた少なくとも1種のカルボキシル基含有バインダーを含有する光重合性樹脂層、を含み、該中間層が水またはアルカリ水溶液に可溶なヒドロキシアルキルセルロース類、カルボキシアルキルセルロース類、セルロースエーテル類から成る群より選ばれた重合度=20〜1,000のセルロース類であることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

少なくとも、(1)支持体、(2)該支持体上に設けた膜厚=0.1〜5μmの中間層、(3)該中間層上に設けた少なくとも1種のカルボキシル基含有バインダーを含有する光重合性樹脂層、を含む光重合性樹脂材料において、該中間層が水またはアルカリ水溶液に可溶なヒドロキシアルキルセルロース類、カルボキシアルキルセルロース類、セルロースエーテル類から成る群より選ばれた重合度=20〜1,000のセルロース類であることを特徴とする光重合性樹脂材料。

IPC (6)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/30 ,  H05K 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-236553
  
• 特開平2-213849
  
• 特開昭60-098433
  
• 特開平3-205404