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J-GLOBAL ID:200903056598365122

光学異方体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 勝利
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001160514
Publication number (International publication number):2002348319
Application date: May. 29, 2001
Publication date: Dec. 04, 2002
Summary:
【要約】【課題】液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を液晶状態で重合し、透明性に優れた光学異方体を得る製造方法を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表される液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を、30°C以上液晶相-等方性液体相への相転移温度未満の温度範囲で光重合する、光学異方体の製造方法。【化1】(式中、L1、L2、L3は水素原子またはメチル基を表し、6員環A、Bは1,4-フェニレン基等を表し、6員環Cは1,3,4-ベンゼントリイル基等を表し、Y1、Y2は単結合、-COO-、-OCO-等を表し、X1、X2、X3は単結合、-O-等を表し、Sp1、Sp2、Sp3は炭素原子数1から20のスペーサー基を表す。)
Claim (excerpt):
25°C以上で液晶性を示す一般式(I)で表される液晶性(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性液晶組成物を、30°C以上から液晶相-等方性液体相への相転移温度未満の温度範囲で光重合する、光学異方体の製造方法。【化1】(式中、L1、L2、L3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、6員環A、Bはそれぞれ独立に、1,4-フェニレン基、一つ又は隣接しない2つのCH基が窒素で置換された1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素原子又は硫黄原子で置換された1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキセン-1,4-ジイル基を表し、これらの6員環AとBは、さらに炭素原子数1〜7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で1つ以上置換されていても良く、6員環Cは1,3,4-ベンゼントリイル基、一つ又は隣接しない2つのCH基が窒素で置換された1,3,4-ベンゼントリイル基、1,3,4-シクロヘキサントリイル基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素原子又は硫黄原子で置換された1,3,4-シクロヘキサントリイル基、又はシクロヘキセン-1,3,4-トリイル基を表し、6員環Cの水素原子は、さらに炭素原子数1〜7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で置換されていても良く、Y1、Y2はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-OCO-COO-を表し、X1、X2、X3はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-、-OCO-を表し、Sp1、Sp2、Sp3は炭素原子数1から20のスペーサー基を表す。)
IPC (5):
C08F 20/20 ,  C08F 2/46 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/13363
FI (5):
C08F 20/20 ,  C08F 2/46 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/13363
F-Term (32):
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H091FA07 ,  2H091FA11 ,  2H091FB02 ,  2H091FB03 ,  4J011AC04 ,  4J011QA07 ,  4J011QA25 ,  4J011SA00 ,  4J011UA01 ,  4J011WA07 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL67P ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100DA66 ,  4J100FA28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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