Pat
J-GLOBAL ID：200903056636795721
投影露光装置、投影露光方法、被露光部材の製造方法、被露光部材および半導体デバイス
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
岸田 正行
, 水本 敦也
, 小花 弘路
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003025086
Publication number (International publication number)：2004233893
Application date： Jan. 31, 2003
Publication date： Aug. 19, 2004
Summary：
【課題】大型の被露光部材に対して同様に大型のマスクを用意しなければならない。【解決手段】投影露光装置に、複数列の露光パターンを繰り返し露光するための複数列のマスクパターンを有するマスク4に光を照射する照明系7と、マスクパターンからの光を被露光部材に投射する投影系2と、被露光部材を不連続パターンの列が並ぶ方向に移動させる露光ステージ5と、照明系からのマスクへの光照射と被露光部材を不連続パターンの列のピッチのn倍の量移動させる露光ステージのステップ駆動とを交互に行わせる制御手段8とを設ける。制御手段は、露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における露光ステージのステップ駆動に伴って、マスクをマスクパターンの配列ピッチのn倍の量移動させるマスクステージ5のステップ駆動を行わせる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被露光部材に露光パターンの列を繰り返し露光するための複数列のマスクパターンを有するマスクを用いる投影露光装置であって、
前記マスクに光を照射する照明系と、
前記マスクからの光を前記被露光部材に投射する投影系と、
前記被露光部材を移動させる露光ステージと、
前記照明系から前記マスクへの光照射と前記被露光部材を前記露光パターンの配列ピッチのn倍(但し、前記nは前記マスクパターンの列数よりも小さい自然数)の量移動させる前記露光ステージのステップ駆動とを交互に行わせる制御手段と、
前記マスクを移動させるマスクステージとを有し、
前記制御手段は、前記露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における前記露光ステージのステップ駆動に伴って、前記マスクを前記マスクパターンの配列ピッチのn倍の量移動させる前記マスクステージのステップ駆動を行わせることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F7/22 Z
, H01L21/30 516B
, H01L21/30 514A
2H097AA11
, 2H097AA12
, 2H097GB03
, 2H097LA12
, 5F046AA11
, 5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046CC14
, 5F046CC17
