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J-GLOBAL ID：200903056641081907

フラーレン誘導体の合成方法

Inventor： 日隈 弘一郎
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000271162
Publication number (International publication number)：2002080414
Application date： Sep. 07, 2000
Publication date： Mar. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】 合成プロセスが簡素化され、また合成時間を短縮して、所望の高プロトン伝導度を有するフラーレン誘導体を定量的に合成することができる、フラーレン誘導体の合成方法を提供すること。【解決手段】 フラーレン分子をシクロスルホン化する工程と、このシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水中に投入して水と反応させ、前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の硫酸水素エステル基などを有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有する、フラーレン誘導体の合成方法。

Claim (excerpt)：

フラーレン分子をシクロスルホン化する工程と、このシクロスルホン化フラーレンを含む反応生成物をそのまま水と反応させ、前記フラーレン分子を構成する炭素原子にプロトン(H+)解離性の基を有するフラーレン誘導体を生成する工程とを有する、フラーレン誘導体の合成方法。

IPC (6)：

C07C 29/12 ,  C07C 35/44 ,  C07C305/22 ,  C07F 9/117 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10

FI (6)：

C07C 29/12 ,  C07C 35/44 ,  C07C305/22 ,  C07F 9/117 ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10

F-Term (10)：

4H006AA02 ,  4H006AC61 ,  4H006BE43 ,  4H006BE60 ,  4H050AC70 ,  4H050WA11 ,  4H050WA23 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE05