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J-GLOBAL ID：200903056651686084

高分子ゲルおよびその製造方法

Inventor：
原口 和敏

About 原口 和敏


Applicant, Patent owner：
財団法人川村理化学研究所

About 財団法人川村理化学研究所


Agent (1)： 河野 通洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005353334
Publication number (International publication number)：2007154092
Application date： Dec. 07, 2005
Publication date： Jun. 21, 2007
Summary：
【課題】 アミド基含有高分子と粘土鉱物とが三次元網目を形成してなる高分子ゲルであって、優れた力学物性と三次元網目の安定性を併せ持つ、高分子ゲルの提供。【解決手段】 アミド基含有高分子と粘土鉱物からなる高分子ゲルにおいて、アミド基含有高分子と粘土鉱物が三次元網目を形成し、且つアミド基含有高分子と粘土鉱物の結合の少なくとも一部を共有結合及び/またはイオン結合とすることにより、優れた力学物性と三次元網目の安定性を併せ持つ高分子ゲル。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
アミド基含有高分子と粘土鉱物とが三次元網目を形成してなる高分子ゲルにおいて、該アミド基含有高分子と該粘土鉱物の間に、共有結合及びイオン結合の少なくとも1つを有することを特徴とする高分子ゲル。
IPC (4)：
C08L 101/02 ,  C08K 3/34 ,  C08F 2/44 ,  C08F 292/00
FI (4)：
C08L101/02 ,  C08K3/34 ,  C08F2/44 A ,  C08F292/00
F-Term (14)：
4J002BG131 ,  4J002DJ006 ,  4J002EX047 ,  4J002EX057 ,  4J002EX077 ,  4J011PA13 ,  4J011PC02 ,  4J011QA06 ,  4J011QA43 ,  4J026AC00 ,  4J026BA32 ,  4J026BA43 ,  4J026DB03 ,  4J026DB08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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