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J-GLOBAL ID：200903056664610141

全方向同時蒸着重合装置

Inventor： 多田 勲 ,  長嶋 直樹 ,  高橋 善和 ,  飯島 正行
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社
Agent (1)： 飯阪 泰雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991323808
Publication number (International publication number)：1993132763
Application date： Nov. 12, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】[構成] 真空処理室1aの両壁部19a、19bにフランジ加熱ヒ-タ14a、14bを埋設し、これ以外の各バレル10面が対向する外周壁部18には処理室加熱ヒ-タ13が埋設されている。また、真空排気系用配管51の壁部にも排気系加熱ヒ-タ15が埋設されており、更に蒸発源容器5a、5bのに接続されている導入管6a、6bにも導入管加熱ヒ-タ16a、16bが埋設されている。これら各加熱ヒ-タは各々独立して温度制御が可能である。導入管加熱ヒ-タ16a、16bを設けたことで導入管6a、6bにモノマが付着せず蒸発速度の低下が防止でき、排気系加熱ヒータ15を設けたことで真空排気系2の内壁にモノマが付着せず排気能力の低下が防止でき、蒸発レ-トが不安定となる要因を取り除くことができる。[効果] 被蒸着物表面上に形成される高分子被膜の質を良好にする。

Claim (excerpt)：

真空処理室内に、外部蒸発源からの高分子膜の原料モノマ蒸気を導入する導入管と、高分子膜を表面に形成させる被蒸着材を収容するバレルを配置した全方向同時蒸着重合装置において、前記真空処理室の全壁部、前記導入管の全壁部及び前記真空処理室に接続される真空排気系用配管の全壁部に各々加熱ヒータを取りつけたことを特徴とする全方向同時蒸着重合装置。

IPC (5)：

C23C 14/24 ,  C08F 2/34 MCF ,  C08F 2/34 MCT ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/54

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-261322
  
• 特公昭59-003544
  
• 特開昭61-078463