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J-GLOBAL ID:200903056687747640

毛髪化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996156326
Publication number (International publication number):1997151119
Application date: May. 29, 1996
Publication date: Jun. 10, 1997
Summary:
【要約】 (修正有)【解決手段】 次式:[式中、R1 は脂肪族不飽和を含まない1価の炭化水素基、Xは式-R3-Z(R3 は直接結合または炭素原子数1〜20の二価炭化水素基、Zはアミノ基含有基、アンモニウム基含有基またはエポキシ基含有基を表す)で表される反応性官能基、R2 はR1 またはXのいずれかを表し、nは2〜4の整数、aは少なくとも2の整数、bは少なくとも1の整数、cは少なくとも4の整数、dは少なくとも2の整数、Yは炭素-珪素によって隣接珪素原子にそして酸素原子によってポリオキシアルキレンブロックに結合している2価の有機基を表す]で表される反応性シリコーン系ブロック共重合体を含有する毛髪化粧料。【効果】 泡立ちや乳化性が良く、毛髪を処理した場合の毛髪の仕上がり、風合い、つや、セット性、感触、櫛通り性、枝毛の予防および修復効果等が優れる。
Claim (excerpt):
次式:【化1】[式中、R1 は脂肪族不飽和を含まない1価の炭化水素基を表し、Xは次式:-R3 -Z(式中、R3 は直接結合または炭素原子数1〜20の二価炭化水素基を表し、Zはアミノ基含有基、アンモニウム基含有基またはエポキシ基含有基を表す)で表される反応性官能基を表し、R2 はR1 またはXのいずれかを表し、nは2〜4の整数であり、aは少なくとも2の整数であり、bは少なくとも1の整数であり、cは少なくとも4の整数であり、dは少なくとも2の整数であり、Yは炭素-珪素によって隣接珪素原子にそして酸素原子によってポリオキシアルキレンブロックに結合している2価の有機基を表し、各シロキサンブロックの平均分子量は約250〜約10,000であり、各ポリオキシアルキレンブロックの平均分子量は約200〜約10,000であり、シロキサンブロックは共重合体の約25〜約95重量%を構成し、そしてブロック共重合体は少なくとも約1,000の平均分子量を有する]で表される反応性シリコーン系ブロック共重合体を含有することを特徴とする毛髪化粧料。
IPC (3):
A61K 7/06 ,  C08G 77/46 NUL ,  C08L 83/06 LRM
FI (3):
A61K 7/06 ,  C08G 77/46 NUL ,  C08L 83/06 LRM
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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