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J-GLOBAL ID：200903056698636336

成膜処理装置及び成膜処理方法

Inventor： 米永 富廣 ,  立花 光博 ,  田中 澄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  テル・エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995079954
Publication number (International publication number)：1996246154
Application date： Mar. 10, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 シャワーヘッド等の表面に成膜付着防止膜を形成してウエットクリーニング作業の頻度を少なくすることができる成膜処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを載置する載置台4を内部に有する処理室34と、この載置台に対向する位置に前記処理室内に処理ガスを供給するガス供給部62とを備えて前記被処理体の表面に金属膜或いは金属化合物膜を形成する成膜処理装置において、前記処理室内の構造物の表面に、成膜の付着し難い成膜付着防止膜78を形成する。これにより、例えばドライクリーニングでは除去し得ない金属酸化膜の付着を防止し、ウエットクリーニング作業の頻度を少なくする。

Claim (excerpt)：

被処理体を載置する載置台を内部に有する処理室と、この載置台に対向する位置に前記処理室内に処理ガスを供給するガス供給部とを備えて前記被処理体の表面に金属膜或いは金属化合物膜を形成する成膜処理装置において、前記処理室内の構造物の表面に、成膜の付着し難い成膜付着防止膜を形成したことを特徴とする成膜処理装置。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285

FI (3)：

C23C 16/44 J ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平3-047968
  
• 特公平3-057191
  

Cited by examiner (4)

• 特開平3-047968
  
• 特公平3-057191
  
• 特開平3-047968
  
• 特公平3-057191