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J-GLOBAL ID：200903056711211285

マイクロ波処理装置

Inventor：
大森 義治

About 大森 義治

, 
信江 等隆

About 信江 等隆

, 
安井 健治

About 安井 健治

, 
三原 誠

About 三原 誠


Applicant, Patent owner：
パナソニック株式会社

About パナソニック株式会社


Agent (3)： 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008017753
Publication number (International publication number)：2009181728
Application date： Jan. 29, 2008
Publication date： Aug. 13, 2009
Summary：
【課題】加熱室内に収納されたさまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を高効率で、加熱むらを抑えた状態に加熱処理すること。【解決手段】被加熱物10を収容する加熱室8にマイクロ波を供給する手段において、周波数が制御できる半導体素子などで構成した発振部1a、1cと、位相を可変する位相可変部3a〜3dと、電力増幅する増幅部4a〜4dと、給電部5a〜5dと、発振周波数と位相量および、電力増幅量を制御する制御部7とを備え、給電部5a〜5dから放射するマイクロ波の励振方向を意図的な方向に変え、その励振方向の制御と関連付けて動作周波数や位相および、電力増幅量の制御を組み合わせて最適な加熱処理が行える。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
被加熱物を収容する加熱室と、マイクロ波を発生させる発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の出力間の位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部または、前記位相可変部の出力を電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部とを備え、前記給電部から放射されるマイクロ波の励振方向を任意の方向に設定する手段と、前記給電部間の位相を可変制御する手段とを有するマイクロ波処理装置。
IPC (4)：
H05B 6/72 ,  H05B 6/70 ,  H05B 6/74 ,  H05B 6/66
FI (5)：
H05B6/72 D ,  H05B6/70 F ,  H05B6/74 E ,  H05B6/72 A ,  H05B6/66 C
F-Term (17)：
3K086AA01 ,  3K086AA08 ,  3K086BA05 ,  3K086BA07 ,  3K086CB05 ,  3K086CB06 ,  3K086DA06 ,  3K090AA01 ,  3K090AA02 ,  3K090AB01 ,  3K090AB14 ,  3K090BA03 ,  3K090DA01 ,  3K090DA04 ,  3K090DA14 ,  3K090DA17 ,  3K090DA19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特開昭52-19342号公報
  • 特開昭56-132793号公報
  • 特開昭56-96486号公報
Cited by examiner (13)
  • 特開昭56-132793
  • 3つのデカップルされた発振器を含むマイクロ波又は無線波装置
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-506533   Applicant：リムテクノロジーズコーポレイションエヌ・ヴェ
  • 高周波加熱装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-312080   Applicant：株式会社東芝, 東芝エー・ブイ・イー株式会社
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