光デイスク製造装置、光デイスク製造方法及び光デイスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田辺恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994158140
Publication number (International publication number)：1996007344
Application date： Jun. 15, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は、光デイスク製造装置、光デイスク製造方法及び光デイスクについて、再生光源に応じたトラツクピツチ及びDCグルーブの幅、深さを制御する。【構成】所定のトラツクピツチ(P)及びグルーブ幅(W)の信号記録再生領域(4)を露光すると共に、当該信号記録再生領域(4)の外周又は内周にグルーブ幅(W)の2倍のピツチでグルーブ幅(W)のグルーブを有する現像モニタ領域(5)を露光した後、信号記録再生領域(4)及び現像モニタ領域(5)に現像液を注ぐと共にレーザ光(L)を照射し、現像モニタ領域(5)の現像が進んでグルーブが形成されて得られる一次回折光を検出したタイミングに応じて、信号記録再生領域(4)及び現像モニタ領域(5)の現像を停止させる。これにより所定のトラツクピツチ(P)及びグルーブ幅(W)の信号記録再生領域(4)を形成することができる。

Claim (excerpt)：

デイスク原盤上に塗布されたフオトレジスト上に、所定のトラツクピツチ及びグルーブ幅のグルーブでなり、当該グルーブ内及び又はグルーブ間に信号を記録し再生する信号記録再生領域を露光すると共に、当該信号記録再生領域の外周又は内周に上記グルーブ幅の2倍のピツチで上記グルーブ幅に等しいグルーブを有する現像モニタ領域を露光する露光手段と、当該露光後の上記デイスク原盤を回転させて上記信号記録再生領域及び現像モニタ領域に現像液を注いで、当該信号記録再生領域及び現像モニタ領域を現像する現像手段と、上記現像モニタ領域にレーザ光を照射するレーザ光源と、上記現像モニタ領域の現像が進んで上記グルーブが形成されて得られる一次回折光を検出して光電変換する光検出手段と、上記一次回折光が検出されたタイミングに応じて、上記現像液の供給を停止して上記信号記録再生領域及び現像モニタ領域の現像を停止させる制御手段とを具えることを特徴とする光デイスク製造装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

光記録ディスク原盤のピット現像方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-169018 Applicant：東芝イーエムアイ株式会社
特開平3-280232
特開平1-292202

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