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J-GLOBAL ID：200903056747835544

複素反射率測定方法及び装置

Inventor： 中山 保彦 ,  芝 正孝 ,  相場 良彦 ,  小森谷 進
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992007747
Publication number (International publication number)：1993196567
Application date： Jan. 20, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 多層構造の下地層の複素反射率を容易に測定できるようにする。【構成】 回折光マスク1の回折格子2、3間のB位置で可干渉性、高指向性の平行光C2が反射されて参照光A0となる。回折格子2で同様の平行光C1 の回折光が生じ、ウエハ6にほぼ水平に照射されて全反射し、s偏光の反射光A2 となる。回折格子3で同様の平行光C3 の回折光が生じ、ウエハ6に垂直照射して反射し、反射光A1として平行光C2である参照光A0と合成される。参照光A0は偏光ビームスプリッタ9でp、s偏光に分離され、このp偏光と反射光A2 とがビームスプリッタ15で合成されてセンサ18でヘテロダイン干渉する。また、これらp、s偏光はビームスプリッタ14で合成されてセンサ19でヘテロダイン干渉する。反射光A1と参照光A0の合成光はセンサ20、21でヘテロダイン干渉する。これらの干渉結果から複素反射率の位相の項が得られる。

Claim (excerpt)：

可干渉性かつ高指向性の平行光を、基準高さ位置に設定された被測定物の表面に、垂直及びほぼ水平に近い斜方から照射し、該被測定物の表面からの垂直照射光の反射光と参照光との干渉光と、該被測定物の表面にほぼ水平に近い斜方からの照射光の反射光と参照光との干渉光との位相差から該被測定物の複素反射率の位相項を検出し、垂直照射光の反射光の強度から被測定物の複素反射率の振幅を検出することを特徴とする複素反射率測定方法。

IPC (3)：

G01N 21/55 ,  G01J 1/00 ,  H01L 21/66