Pat
J-GLOBAL ID：200903056748630199
2結晶法によるX線トポグラフィ装置及び該装置を用いたX線回折写真撮影方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三澤 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993145563
Publication number (International publication number)：1994331573
Application date： May. 25, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、反りや結晶格子面の湾曲等がある試料に対してもその全面の結晶状態を測定することができる2結晶法によるX線トポグラフィ装置を提供する。【構成】 本発明は、X線源2からの幅の有るX線束を単結晶3で回折させ、この単結晶3からの幅の有る回折線を試料としての結晶4の各測定位置に入射し、結晶4の各測定位置からの回折線を撮影手段7により撮影し結晶4の結晶状態を測定する2結晶法によるX線トポグラフィ装置1において、前記結晶4に対する前記回折線の各入射位置各々についてブラッグの回折条件を満足させる回折条件設定手段10を設けた。この構成により上記目的を達成できる。
Claim (excerpt)：
X線源からの幅の有るX線束を単結晶で回折させ、この単結晶からの幅の有る回折線を試料としての結晶の各測定位置に入射し、前記結晶の各測定位置からの回折線を撮影手段により撮影しこの結晶の結晶状態を測定する2結晶法によるX線トポグラフィ装置において、前記単結晶に対する前記回折線の各入射位置各々についてブラッグの回折条件を満足させる回折条件設定手段を設けたことを特徴とする2結晶法によるX線トポグラフィ装置。
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
