Pat

J-GLOBAL ID：200903056760828476

メイク洗浄料

Inventor： 内川 恵一 ,  野田 章 ,  中間 康成 ,  宮沢 清
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110278
Publication number (International publication number)：1995291828
Application date： Apr. 25, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】 化1のポリオキシエチレンモノエステルと、化2のマルチトールエーテルを含有するメイク洗浄料。特に、ポリオキシエチレンモノエステルがモノイソステアレート及び/又はモノオレエートである前記メイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22、aは1〜3の整数。)【効果】 メイクを落とす効果に優れていると同時に、水を加えることによって泡立たせることができ、使用後の肌にさっぱりした感触を与えるものである。

Claim (excerpt)：

一般式化1で表わされるポリオキシエチレンモノエステルと、一般式化2で表わされるマルチトールエーテルを含有することを特徴とするメイク洗浄料。【化1】(式中、R1は飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、Aはマルチトールからa個の水酸基を除いた残基、R2、R3は水素原子、アルキル基又はアルケニル基で、R2、R3の合計炭素数は6〜22であり、また、aは1〜3の整数を表わす。)

IPC (5)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/825 ,  C11D 1:74 ,  C11D 1:68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 皮膚洗浄料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-282238   Applicant：株式会社資生堂
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-340976   Applicant：花王株式会社
• 特開平4-154716
  
• 特開平1-093598