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J-GLOBAL ID：200903056765553688

真空吸着装置

Inventor： 森岡 裕之
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997046786
Publication number (International publication number)：1998242255
Application date： Feb. 28, 1997
Publication date： Sep. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】パーティクルやコンタミネーションが少なく、高い平坦精度に保持することが可能な真空吸着装置を提供する。【解決手段】セラミック基台11の一主面に凹欠部12を有し、該凹欠部12の底面には複数の突起13を備えてなり、該突起13の頂面13aとセラミック基台11の一主面とを保持面14としてなる真空吸着装置10において、上記突起13を先細り状とするとともに、その頂面13aを点又はその面積を0.02mm2 以下とする。

Claim (excerpt)：

セラミック基台の一主面に凹欠部を有し、該凹欠部の底面には複数の突起を備えてなり、該突起の頂面とセラミック基台の一主面とは同一平面上にあって保持面をなし、上記凹欠部内を減圧することで、被吸着物を上記保持面で規定しながら吸着保持する真空吸着装置において、上記突起は先細り状で、かつその頂面が点又はその面積が0.02mm2 以下であることを特徴とする真空吸着装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08

FI (2)：

H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 保持装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-199801   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平1-129438
  
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-286517   Applicant：株式会社ニコン