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J-GLOBAL ID：200903056770894760

露光方法

Inventor： 野々垣 三郎 ,  今井 彰
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992287274
Publication number (International publication number)：1994140300
Application date： Oct. 26, 1992
Publication date： May. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】密着露光法の簡便さを維持したまま、高解像度の露光を可能とする露光方法を提供すること。【構成】基板上に設けられた微細図形状誘電体により構成される位相シフト型光学マスクを感光性物質膜に近接して配置し、位相シフト型光学マスクに光を照射し、回折光の干渉によって生ずる光の明暗像中に0次回折光が現れない又は極めて小さい条件で、感光性物質膜に光の明暗像を直接転写する露光方法。

Claim (excerpt)：

基板上に設けられた微細図形状誘電体により構成される位相シフト型光学マスクを感光性物質膜に近接して配置し、該位相シフト型光学マスクに光を照射し、回折光の干渉によって生ずる光の明暗像を該感光性物質膜に直接転写することを特徴とする露光方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03C 5/02 ,  G03C 5/08 351 ,  G03F 7/20 521