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J-GLOBAL ID：200903056778093333

シリカ系複合酸化物粒子の製造方法

Inventor：
亀田 誠

About 亀田 誠


Applicant, Patent owner：
株式会社トクヤマ

About 株式会社トクヤマ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006099619
Publication number (International publication number)：2007269594
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Summary：
【課題】 反射防止層や透明な高屈折率樹脂やフィルムの添加剤として極めて有用な単分散性、円形度の高いシリカ系複合酸化物粒子を効率的に製造する方法を提供する。 【解決手段】 水を含む反応溶媒中にテトラアルコキシシランなどのシリカ原料物質とチタンテトライソプロポキシドなどの異種酸化物原料物質を添加して反応させてシリカ系複合酸化物粒子を製造するに際し、上記反応溶媒中にアセトニトリルを添加すると共に、反応液に含まれるアセトニトリルの濃度を20質量%以上に保ちながら前記反応を行う。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
水及び有機溶媒を含んでなる反応溶媒中に、シリコンのアルコキシド及び/又は該アルコキシドから誘導される可縮合性化合物、並びにシリコン以外の金属のアルコキシド、該アルコキシドから誘導される可縮合性化合物、及びシリコン以外の金属の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種を添加して反応させる工程を含むシリカ系複合酸化物粒子の製造方法において、前記有機溶媒の少なくとも1成分としてアセトニトリルを使用すると共に、反応液に含まれるアセトニトリルの濃度を20質量%以上に保ちながら前記反応を行うことを特徴とする方法。
IPC (1)：
C01B 33/00
FI (1)：
C01B33/00
F-Term (18)：
4G072AA35 ,  4G072AA36 ,  4G072AA37 ,  4G072BB07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ46 ,  4G072LL06 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM21 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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