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J-GLOBAL ID：200903056792695079

シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜およびシリカ系被膜の形成された液晶表示素子

Inventor： 島村 泰夫 ,  森嶋 浩之
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992001114
Publication number (International publication number)：1993179201
Application date： Jan. 08, 1992
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 保存安定性の良好なシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 アルコキシシラン化合物を触媒及び溶媒の存在下で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に、アルコキシシラン化合物1モル当り0.5モル以上2モル未満の水を添加し、さらにTiキレート化合物及び/又はZrキレート化合物を加えることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜を有する液晶表示素子等。

Claim (excerpt)：

アルコキシシラン化合物を触媒及び溶媒の存在下で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に、アルコキシシラン化合物1モル当たり0.5モル以上2モル未満の水を添加し、さらにTiキレート化合物及び/又はZrキレート化合物を加えることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造法。

IPC (4)：

C09D183/04 PMR ,  C08G 77/18 NUD ,  C08G 77/18 NUG ,  G02F 1/1333 505