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J-GLOBAL ID：200903056805737450

ガスバリアフィルム

Inventor： 松田 修成 ,  伊関 清司 ,  森原 芳治 ,  小谷 徹 ,  大谷 寿幸 ,  山田 陽三
Applicant, Patent owner： 東洋紡績株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993131823
Publication number (International publication number)：1994340022
Application date： Jun. 02, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 耐屈曲性、ガスバリア性に優れた酸化ホウ素・酸化硅素系ガスバリアフィルムを提供することにある。【構成】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ホウ素・酸化硅素系薄膜が形成されたガスバリアフィルムにおいて、該薄膜内の酸化ホウ素の比率が1重量%以上60重量%以下であって、該薄膜の比重と薄膜内の酸化ホウ素組成比率との関係をD=-0.008A+b(D:薄膜の比重,A:薄膜中の酸化ホウ素の重量%、b:酸化硅素のみから成る薄膜の比重)という関係式で表す時、該薄膜の比重を、1.6≦b≦2.5 であらわされる範囲内とすることによって、ガスバリア性に優れ、また、屈曲性の高い、総合的に実用特性のすぐれた酸化ホウ素・酸化珪素系ガスバリアフィルムを提供できる。

Claim (excerpt)：

プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ホウ素・酸化硅素を主たる成分とする薄膜が形成されたガスバリアフィルムにおいて、該薄膜内に酸化ホウ素の比率が1重量%以上、60重量%以下であって、該薄膜の比重が下記式を満足することを特徴とするガスバリアフィルム。D=-0.008A+b 1.6≦b≦2.5但し D:薄膜の比重、A:薄膜中の酸化ホウ素の重量%b:酸化硅素のみからなる薄膜の比重

IPC (3)：

B32B 9/00 ,  B32B 27/00 ,  C08J 7/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-187733
  
• 特開平3-187733
  
• 特開平3-218823
  
• 特開平3-218823