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J-GLOBAL ID：200903056814058914

露光装置

Inventor： 花崎 哲嗣
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993098018
Publication number (International publication number)：1994310398
Application date： Apr. 23, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 露光装置のレチクル交換を効率的に行い、スループットの高い露光装置を提供することを目的とする。【構成】 複数のレチクルを保管するレチクルライブラリ1からレチクルを大まかに位置決めするプリアライメント機構3を介してレチクルステージ5までの搬送経路中にレチクルを一時的に保管する保管庫8を設ける。また、レチクルステージの近傍には、複数のレチクルを一体に保持するとともに、露光位置に対して自ら移動することによってレチクルステージに対してレチクルを受け渡すレチクルチェンジャ6を設ける。レチクルチェンジャ上のレチクルR1〜R3を用いて露光を行っている間に、次の露光工程で使用すべきレチクルR4〜R6をレチクルライブラリから取り出し、プリアライメント機構で位置決めした上で保管庫に収納しておく。レチクルR1〜R3による露光が終了した後に、保管庫に収納しておいたレチクルR4〜R6と交換する。

Claim (excerpt)：

複数の基板を保管する基板保管手段と、前記基板を所定の位置に保持する基板ステージと、前記基板保管手段と前記基板ステージとの間で前記基板を搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段による搬送経路中に設けられ、前記基板を前記所定の位置に対して大まかに位置決めする予備位置決め手段とを備え、前記所定の位置に位置決めされた前記基板の像を被露光手段に対して露光する露光装置において、前記基板の複数を一体に保持するとともに、前記所定の位置に対して移動することによって前記基板ステージに対して前記基板を受け渡す基板交換手段と;前記予備位置決め手段によって位置決めされた前記基板を一時的に保管する一時保管部とを前記搬送経路中に備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 J