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J-GLOBAL ID：200903056818217367

廃液処理装置及び該廃液処理装置を用いた灰の無害化処理方法

Inventor：
垰田 博史

About 垰田 博史

, 
坂田 正

About 坂田 正


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所

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垰田 博史

About 垰田 博史

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ジーメック株式会社

About ジーメック株式会社


Agent (1)： 磯野 道造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001090624
Publication number (International publication number)：2002282875
Application date： Mar. 27, 2001
Publication date： Oct. 02, 2002
Summary：
【要約】【課題】 廃液中の有機塩素化合物を効率良く分解でき、処理設備を小型化できる廃液処理装置を提供することを課題とする。【解決手段】 廃液を処理するための処理室3と、前記に前記廃液を導入する廃液導入口3dと、前記処理室3から処理済の廃液を排出する廃液排出口3bと、前記処理室3内の上部から下方に向けて設けられた紫外線を発生する紫外線照射部5と、前記紫外線照射部5の下方に設けられた空気導入口3dと、前記空気導入口3dから前記処理室3内に空気を供給する空気供給手段7と、を具備し、前記処理室3内に前記廃液と共に投入された光触媒を、前記空気導入口3cから供給された空気により攪拌しつつ前記紫外線照射部5による紫外線照射により前記廃液中の有害物質を分解可能にしたことを特徴とする廃液処理装置1を提供する。
Claim (excerpt)：
廃液を処理するための処理室と、前記処理室に前記廃液を導入する廃液導入口と、前記処理室から処理済の廃液を排出する廃液排出口と、前記処理室内の上部から下方に向けて設けられた紫外線を発生する紫外線照射部と、前記紫外線照射部の下方に設けられた空気導入口と、前記空気導入口から前記処理室内に空気を供給する空気供給手段と、を具備し、前記処理室内に前記廃液と共に投入された光触媒を、前記空気導入口から供給された空気により攪拌しつつ、前記紫外線照射部による紫外線照射により前記廃液中の有害物質を分解可能にしたことを特徴とする廃液処理装置。
IPC (7)：
C02F 1/72 101 ,  B01J 35/02 ,  B09B 3/00 ,  B09B 5/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/52
FI (7)：
C02F 1/72 101 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/28 B ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/52 K ,  B09B 3/00 304 G ,  B09B 5/00 N
F-Term (47)：
4D004AA37 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004AC05 ,  4D004BA02 ,  4D004CA09 ,  4D004CA13 ,  4D004CA34 ,  4D004CA40 ,  4D004CC03 ,  4D015BA19 ,  4D015BB01 ,  4D015FA12 ,  4D024AA04 ,  4D024AB16 ,  4D024BA07 ,  4D024DB01 ,  4D037AA13 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA18 ,  4D037CA08 ,  4D037CA11 ,  4D050AA13 ,  4D050AB19 ,  4D050BB01 ,  4D050BC05 ,  4D050BC06 ,  4D050BD02 ,  4D050CA07 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01B ,  4G069BA02B ,  4G069BA04B ,  4G069BA07B ,  4G069BA08B ,  4G069BA10B ,  4G069BA14B ,  4G069BA17 ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069DA08 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EA08 ,  4G069ZA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 光触媒を用いた水処理方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-246738   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
  • 沈降性の良い光触媒の製造方法及び水の浄化方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-083293   Applicant：株式会社荏原製作所
  • 水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-296807   Applicant：日本碍子株式会社, 垰田博史, 野浪亨, 深谷光春, 渡辺栄次, 伊勢田耕三, 工業技術院長
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