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J-GLOBAL ID：200903056826191482

粒子分析装置および粒子分析方法

Inventor： 長谷川 一英
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社
Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008208808
Publication number (International publication number)：2009258071
Application date： Aug. 14, 2008
Publication date： Nov. 05, 2009
Summary：

【課題】粒子分析装置において、被検粒子へのダメージを極力抑制しつつ、被検粒子の内部構造に基づく分析を可能にする。【解決手段】粒子分析装置100は、励起光を発生する光源部1と、励起光を被検粒子である細胞8を含む試料液71の流れに照射する照射光学系2と、励起光が照射されることにより細胞8から生じる非線形ラマン散乱光を検出する検出部4と、検出部4からの信号を処理して細胞8を分析する分析部5とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

励起光を発生する光源部と、 前記励起光を被検粒子を含む試料液の流れに照射する照射光学系と、 前記励起光が照射されることにより前記被検粒子から生じる非線形ラマン散乱光を検出する検出部と、 該検出部からの信号を処理して前記被検粒子を分析する分析部とを備えたことを特徴とする粒子分析装置。

IPC (2)：

G01N 15/14 ,  G01N 21/65

FI (2)：

G01N15/14 P ,  G01N21/65

F-Term (21)：

2G043AA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA04 ,  2G043EA04 ,  2G043FA06 ,  2G043GA06 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043HA09 ,  2G043HA15 ,  2G043JA03 ,  2G043JA04 ,  2G043JA05 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043LA02 ,  2G043MA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• フロー蛍光法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-226683   Applicant：ソイニ,エルッキ