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J-GLOBAL ID：200903056828885759

X線発生装置

Inventor： 野田 正治 ,  則竹 達夫 ,  武市 晃洋
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 岡田 英彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998007098
Publication number (International publication number)：1999202098
Application date： Jan. 16, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ発生用レーザ光パルスによってターゲット物質から飛散する微粒子に光を照射して帯電させ、帯電した微粒子に電磁力を加えてX線経路からそらせる装置において、微粒子の発生タイミングと帯電用の光の照射タイミングを確実に調整する。【解決手段】 そのために、一つのレーザ光パルス発生装置2からのレーザ光パルスを分岐し、一方1aをプラズマ発生用に用い、他方1cを帯電用に用いる。帯電用パルスはプラズマ発生用パルスよりも遅れて照射領域36に到達することが好ましく、かつ複数パルスが次々に到達して実質的時間幅が増大していることが好ましい。

Claim (excerpt)：

レーザ光に照射されるとプラズマを発生するターゲット物質と、そのプラズマから発生するX線の経路を挟んで配置された一対の電極と、その一対の電極間に電圧を印加する電圧発生装置と、レーザ光パルス発生装置と、そのレーザ光パルス発生装置で発生したレーザ光パルスを分岐する装置と、分岐された一方のレーザ光パルスを前記ターゲット物質に照射する第1光学装置と、分岐された他方のレーザ光パルスを前記一対の電極と前記ターゲット物質の間の領域に照射する第2光学装置とを有するX線発生装置。

IPC (4)：

G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01S 3/00 ,  H05G 2/00

FI (4)：

G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H01S 3/00 Z ,  H05G 1/00 K