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J-GLOBAL ID:200903056861017975
X線強度補正フィルタ、X線露光装置及びX線露光方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高田 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994154720
Publication number (International publication number):1996021900
Application date: Jul. 06, 1994
Publication date: Jan. 23, 1996
Summary:
【要約】【目的】 シンクロトロン放射光をX線源とするX線露光装置において、露光フィールドにおける露光X線強度分布を均一に補正するための強度補正フィルタをビームラインに備えることにより、転写パターンの精度を向上させることを目的とする。【構成】 本発明は、X線が通過する気体中で強度減衰を生じる現象を利用するもので、X線光源から光学系を介して露光面へとX線伝播経路上、露光面直前位置に、X線の入射及び出射面が薄膜隔壁で構成される容器を配設し、その容器内に所定の気体を封入し、この封入気体の薄膜隔壁外部雰囲気との差圧を制御し、容器の薄膜隔壁に所望のたわみ変形を与えることにより、封入気体中のX線直進距離を制御し、これにより封入気体中でのX線の減衰を制御することで、露光X線の強度分布を均一に補正する。さらに、露光面での強度分布情報を差圧制御系にフィードバックすることでさらに補正の精度は向上する。
Claim (excerpt):
特定雰囲気を形成する容器にX線が透過する2枚の対向する可撓性隔壁を備えたことを特徴とするX線強度補正フィルタ。
IPC (5):
G21K 3/00
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02
, H01L 21/027
, H05H 13/04
FI (2):
H01L 21/30 531 A
, H01L 21/30 531 E
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