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J-GLOBAL ID：200903056880844190

フォーカスリングおよびその製造方法

Inventor： 川田 敦雄 ,  茂木 弘 ,  小林 利美
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 好宮 幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999119551
Publication number (International publication number)：2000311859
Application date： Apr. 27, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 フッ素系ガスなど腐食性ガスによるクリーニングを行っても、パーティクルが発生することがないフォーカスリングを提供する。【解決手段】 プラズマ装置に用いられるフォーカスリングであって、表面に化学気相蒸着法により成膜されたセラミック被膜を有するフォーカスリング。および、プラズマ装置に用いられるフォーカスリングの製造方法において、円環状の基材に化学気相蒸着法によってセラミック被膜を成膜してフォーカスリングを製造するフォーカスリングの製造方法。

Claim (excerpt)：

プラズマ装置に用いられるフォーカスリングであって、表面に化学気相蒸着法により成膜されたセラミック被膜を有することを特徴とするフォーカスリング。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

F-Term (19)：

5F004AA13 ,  5F004BA04 ,  5F004BA19 ,  5F004BB18 ,  5F004BB21 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004BD04 ,  5F004DA17 ,  5F004DB01 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AC02 ,  5F045AC03 ,  5F045AE17 ,  5F045AE19 ,  5F045BB15 ,  5F045EM03 ,  5F045EM09