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J-GLOBAL ID：200903056893357824

光メモリ素子用フレキシブル基板及びその製造方法

Inventor： 伴 和夫 ,  磯野 仁志 ,  伊納 一平 ,  太田 賢司
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992242935
Publication number (International publication number)：1994096473
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 プラスチックフィルム2上に金属膜3aにより案内溝が形成されたフレキシブル基板1及び、フォトマスク5を用いた密着露光法によるその製造方法。【効果】 小型であっても、柔軟性を失わないフレキシブル基板が得られる。

Claim (excerpt)：

プラスチックからなるシートに溝が形成されたフレキシブル基板の製造方法において、プラスチックシート上に金属膜を形成する工程と、該金属膜上にフォトレジストを塗布する工程と、上記フォトレジストに溝パターンが形成されたフォトマスクを用いて溝パターンを露光転写する工程と、露光された部分のフォトレジストを除去する工程と、露光された部分の金属膜を除去する工程と、未露光部のフォトレジストを除去する工程とを含むことを特徴とする光メモリ素子用フレキシブル基板の製造方法。

IPC (3)：

G11B 7/26 521 ,  B41M 5/26 ,  G11B 7/24 561

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-195737
  
• 特開昭63-011326
  
• 特開昭64-014746