ヒドロキシラジカルの製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：武田正彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002069369
Publication number (International publication number)：2003026406
Application date： Mar. 13, 2002
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：

【要約】【課題】二酸化チタン触媒等の酸化物半導体触媒の存在下に、水中で、簡単にヒドロキシラジカルを生成させるヒドロキシラジカルの製造方法を提供する。【解決手段】酸化物半導体粒子の存在する水中に超音波を照射することを特徴とするヒドロキシラジカルの製造方法にあり、強力な酸化力、殺菌力を有するヒドロキシラジカルを含有する水を簡単に提供することができ、また、被酸化物質及び酸化物半導体粒子の存在する水中に超音波を照射することにより、被酸化物質を酸化して分解叉は変質させて無害化することができる。

Claim (excerpt)：

流体中で、超音波の照射下に、酸化物半導体粒子と水を接触させることを特徴とするヒドロキシラジカルの製造方法。

IPC (9)：

C01B 13/02 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , C02F 1/36 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 550 , C02F 1/50 560 , C02F 1/72

FI (9)：

C01B 13/02 Z , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , C02F 1/36 , C02F 1/50 531 J , C02F 1/50 540 B , C02F 1/50 550 D , C02F 1/50 560 C , C02F 1/72 Z

F-Term (35)：

4D037AA05 , 4D037AA11 , 4D037AB01 , 4D037AB03 , 4D037AB14 , 4D037BA26 , 4D050AA01 , 4D050AA12 , 4D050AB16 , 4D050BC06 , 4D050BC09 , 4G042BA44 , 4G042BB04 , 4G042BC06 , 4G069AA02 , 4G069AA03 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BC22A , 4G069BC35A , 4G069BC56A , 4G069BC58A , 4G069BC59A , 4G069BC66A , 4G069BC68A , 4G069CA05 , 4G069CA07 , 4G069CA10 , 4G069CC40 , 4G069EA02X , 4G069EA02Y , 4G069EC22X , 4G069EC22Y

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

気泡収縮を利用した液体処理方法および処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-015821 Applicant：株式会社荏原製作所
超音波処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-213542 Applicant：東陶機器株式会社
化学物質の分解法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-109699 Applicant：バブコック日立株式会社

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