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J-GLOBAL ID：200903056922254479

プラズマ処理装置およびそのクリーニング方法

Inventor： 小藤 直行 ,  小野 哲郎 ,  横川 賢悦 ,  水谷 巽 ,  辻本 和典 ,  湯之上 隆
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994260007
Publication number (International publication number)：1996124903
Application date： Oct. 25, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】プラズマ処理装置内壁の清掃の効率を向上させる。【構成】ICP放電を用いてECRプラズマ処理装置の内壁を清掃する。

Claim (excerpt)：

処理室中心部のプラズマ密度が壁近くのプラズマ密度より高いプラズマを用いたプラズマ処理装置において、前記処理室中心部より壁近くのプラズマ密度の方が大きいプラズマを発生させて前記処理室の内壁をクリーニングすることを特徴とするプラズマ処理室のクリーニング方法。

IPC (6)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  G01R 33/64 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H01L 21/302 N ,  G01N 24/14 B