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J-GLOBAL ID：200903056948100216

洗浄剤組成物

Inventor： 木下 耕一 ,  佐々木 啓 ,  橋本 克夫
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999232499
Publication number (International publication number)：2001058929
Application date： Aug. 19, 1999
Publication date： Mar. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 泡立ちが早く、泡の量、泡の持続性、泡のクリーミーさに優れた洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】 ヒドロキシエーテルカルボン酸型陰イオン性界面活性剤とモノエタノールアマイドとを含有することを特徴とする洗浄剤組成物である。

Claim (excerpt)：

ヒドロキシエーテルカルボン酸型陰イオン性界面活性剤とモノエタノールアマイドとを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (5)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/52 ,  C11D 1/65

FI (5)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/52 ,  C11D 1/65

F-Term (29)：

4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC852 ,  4C083AD052 ,  4C083AD152 ,  4C083AD352 ,  4C083BB05 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083DD27 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4H003AB03 ,  4H003AB05 ,  4H003AB23 ,  4H003AC13 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003ED02 ,  4H003FA17 ,  4H003FA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-256644
  
• 特開昭63-280798
  
• 特開昭63-066112