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J-GLOBAL ID：200903056949453333

X線反射率解析装置

Inventor： 百生 秀人 ,  宇佐美 勝久 ,  菊池 哲夫 ,  杵渕 隆男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  理学電機株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994106443
Publication number (International publication number)：1995311165
Application date： May. 20, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は膜構造や各層の膜厚,膜質が未知の試料であっても、解析が可能なX線反射率解析装置を提供することに有る。【構成】薄膜試料のX線反射率パターンを計測し、得られたX線反射率パターンから抽出した振動構造を薄膜の屈折率の推定値を振りながらフーリエ解析し、各々の屈折率と周波数に対するフーリエ変換強度を3次元表示する。さらに、屈折率と周波数から膜厚を計算し、屈折率と膜厚に対するフーリエ変換強度を3次元表示する。

Claim (excerpt)：

薄膜試料のX線反射率パターンから抽出した振動構造をフーリエ解析する装置において、該薄膜の屈折率の推定値を振りながら該振動構造をフーリエ解析し、各々の屈折率について得られたフーリエ解析結果を用いて、屈折率と周波数についてフーリエ変換強度プロファイルを3次元表示する機能を備えたことを特徴とするX線反射率解析装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-346059
  
• エネルギー分散型全反射面内薄膜X線回折法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-274835   Applicant：堀内俊寿
• 特開平3-156350
  
• 特開平3-285152
  
• 特開平4-127043