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J-GLOBAL ID：200903056983168656

放射性汚染物の除染により生じる放射性汚染水の減量方法及び減量装置

Inventor： 土井 明 ,  清水 康雄 ,  市川 誠吾 ,  香山 義彦
Applicant, Patent owner： 森川産業株式会社
Agent (1)： 斎藤 侑 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991295031
Publication number (International publication number)：1995167992
Application date： Oct. 15, 1991
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 放射性汚染物を、水又は水と他の物質とから成る水系除染液を用いて除染する場合、放射性に汚染した水系除染液が大量に生じ、保管のために膨大なスペースを要する。又それをイオン交換樹脂により精製しても、汚染した大量のイオン交換樹脂を生じ、膨大な保管スペースを要する。この問題の解決。【構成】 放射性汚染物を水系除染液で除染し、この除染した水系除染液に凝集剤を供給して凝集させ、これを濾過して清水を得、この清水により水系除染液を形成し、同除染液により前記放射性汚染物を除染する。

Claim (excerpt)：

放射性汚染物1を、水又は水と他の物質とから成る溶液等の水系除染液2により除染し、この除染に用いた水系除染液2に、凝集剤3を与えて汚染物質4を凝集5させ、該凝集物5を濾過し、該濾過により生じた清水6を用いて前記水系除染液2を形成し、該水系除染液2を放射性汚染物1の除染に用いることを特徴とする放射性汚染物の除染により生じる放射性汚染水の減量方法。

IPC (3)：

G21F 9/10 ,  G21F 9/06 521 ,  G21F 9/28 525

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-193700
  
• 特開昭62-266499
  
• 特開昭62-211593
  
• 特開昭64-016852