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J-GLOBAL ID：200903056993766403

走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor： 長谷川 敬恭 ,  吉村 圭司 ,  黒沢 博史 ,  小澤 邦貴
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996018380
Publication number (International publication number)：1997190966
Application date： Jan. 08, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 パルスレーザを光源とする走査型露光装置の積算露光量を一定とし、高解像度のパターンが得られる走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 パルス光源からの複数のパルス光を順次マスク面上に照射し、該マスク上のパターンを基板上に双方を相対的に走査して露光する際、該基板上を照射する複数のパルス光の積算露光量が一定量となるように該パルス光の発光間隔を制御すると共に該パルス光のパルスエネルギのバラツキに伴う積算露光量を調整手段で調整していること。

Claim (excerpt)：

パルス光源からの複数のパルス光を順次マスク面上に照射し、該マスク上のパターンを基板上に双方を相対的に走査して露光する際、該基板上を照射する複数のパルス光の積算露光量が一定量となるように該パルス光の発光間隔を制御すると共に該パルス光のパルスエネルギのバラツキに伴う積算露光量を調整手段で調整していることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-179357
  
• 露光装置及び該露光装置を用いてデバイスを製造する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-119971   Applicant：キヤノン株式会社