Pat
J-GLOBAL ID:200903057001797244
ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法および液晶表示装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 俊一郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999318360
Publication number (International publication number):2000204168
Application date: Nov. 09, 1999
Publication date: Jul. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】液晶セルの電極間の面内部および/またはシール用スペーサとして用いたときに、液晶セルの電極間距離、およびセルギャップ、すなわち液晶セルの電極間に形成された液晶層の厚さを均一に保持することが可能なポリオルガノシロキサン微粒子を極めて効率的に製造する方法を提供する。【解決手段】疎水性の表面を有するシード粒子と界面活性剤とを含むシード粒子分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を添加し、アルカリの存在下に該有機ケイ素化合物を加水分解してシード粒子を成長させることを特徴とするポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法。R1nSi(OR2)4-n ...(1)(式中、R1は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、R2は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、nは0〜3の整数である。)
Claim (excerpt):
疎水性の表面を有するシード粒子と界面活性剤とを含むシード粒子分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を添加し、アルカリの存在下に該有機ケイ素化合物を加水分解してシード粒子を成長させることを特徴とするポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法。R1nSi(OR2)4-n (1)(式中、R1は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、R2は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、nは0〜3の整数である。)
IPC (4):
C08J 3/16 CFH
, C08G 77/06
, C08G 77/14
, G02F 1/1339 500
FI (4):
C08J 3/16 CFH
, C08G 77/06
, C08G 77/14
, G02F 1/1339 500
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
シリコーン微粒子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-338028
Applicant:信越化学工業株式会社
-
ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-268084
Applicant:宇部日東化成株式会社
Cited by examiner (2)
-
シリコーン微粒子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-338028
Applicant:信越化学工業株式会社
-
ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-268084
Applicant:宇部日東化成株式会社
Return to Previous Page