Pat
J-GLOBAL ID:200903057004941397
パターン評価方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993126814
Publication number (International publication number):1994337922
Application date: May. 28, 1993
Publication date: Dec. 06, 1994
Summary:
【要約】【目的】パターンの部位(パターンの内部/外部(背景)/輪郭近傍)に応じた重要度合いを加味した一致度を自動的に算出する技術を導入することにより、人間の感性により近い品質評価を可能とするパターン評価方法を提供する。【構成】平面上に形成された評価対象パターンの品質を、模範パターンとの一致度に基づいて自動的に評価するパターン評価方法において、各パターンを撮像装置によってそれぞれ画像データ化し、パターン内のエッジ近傍領域、エッジ近傍領域で囲まれるパターン内部領域、エッジ近傍領域外側の背景領域の少なくとも3つの領域に各画像データを分割し、相互相関係数演算によりパターンの各対応する分割領域同士の一致度あるいは類似度をそれぞれ算出し、各算出結果の総和に基づいてパターン全体の一致度を求めることを特徴とする。
Claim (excerpt):
平面上に形成された模範パターンを撮像して画像データ化する第1のステップと、この第1のステップにより得られた模範パターンの画像データに基づいて、模範パターン内のエッジ近傍領域を含む各画素毎に評価対象パターンの品質評価に及ぼす影響の大きさを定義する重み画像データを生成する第2のステップと、平面上に形成された評価対象パターンを撮像して画像データ化する第3のステップと、上記評価対象パターンの画像データと前記模範パターンの画像データを各母集合とした時の各要素に前記重み画像データによって与えられる重み係数を乗じた値を計算対象データとし、前記重み画像データの各画素の値の総和を前記各母集合の要素の数として相互相関係数を算出することにより、前記評価対象パターンと前記模範パターンとのパターン全体の一致度を求める第4のステップとを具備することを特徴とするパターン評価方法。
IPC (3):
G06F 15/62 410
, G01B 11/00
, G01B 11/24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平3-280174
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画像処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-237456
Applicant:株式会社ニコン
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特開昭63-193278
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