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J-GLOBAL ID：200903057016022966

真空放電蒸着に用いる基板被覆方法およびその装置

Inventor： リチヤード ピー.ウエルテイ
Applicant, Patent owner： ヴエイパー テクノロジイズ,インコーポレイテツド
Agent (1)： 飯田 伸行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992091888
Publication number (International publication number)：1993106025
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Apr. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 特に長いロッド状又は円筒状の陰極上でアーク放電の速度と方向を制御し、陰極の腐食ならびに被覆層の均一化を図った真空アーク放電装置を提供する。【構成】 真空アーク放電装置が、真空室と、真空ポンプ手段と、円筒状陰極と、円筒状陰極の蒸発表面上に軸磁場成分を形成する第1磁場形成手段と、円筒状陰極の蒸発表面の少なくとも一部に円周磁場成分を形成する第2磁場形成手段と、陽極手段と、アーク電源手段と、円筒状陰極と陽極手段との間に移動アークを投射して円筒状陰極の蒸発表面上で螺旋状に移動させ、移動アークの方向及び速度を軸磁場成分及び円周磁場成分のベクトル結合によって決定するアーク投射手段と、からなって物質を蒸発させかつ基板上に前記物質の層を被覆する構成になっている。

Claim (excerpt)：

物質を蒸発させかつ基板上に前記物質の層を被覆する真空アーク放電装置が、真空室と、前記真空室内で所要の大気圧を生成するために前記真空室に接続された真空ポンプ手段と、前記真空室内に配置され、前記物質による蒸発可能な表面を有し、前記蒸発表面が被覆基板が配置される領域に直面する円筒状陰極と、前記円筒状陰極の蒸発表面上に軸磁場成分を形成し、前記軸磁場成分が前記円筒状陰極の縦軸に実質的に平行な磁束を有する第1磁場形成手段と、前記円筒状陰極の蒸発表面の少なくとも一部に円周磁場成分を形成し、前記円周磁場成分が蒸発表面に実質的に平行で、かつ蒸発表面の所定位置で前記円筒状陰極の縦軸に垂直な磁束を有する第2磁場形成手段と、陽極手段と、アーク電流を供給するアーク電源手段と、及び前記円筒状陰極と前記陽極手段との間にアークを発射するアーク発射手段と、からなり、前記アークを前記円筒状陰極の蒸発表面上で螺旋状に移動させ、前記アークの方向及び速度を前記軸磁場成分及び前記円周磁場成分のベクトル結合によって決定することを特徴とする真空アーク放電装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平1-234562
  
• 特開平4-063265
  
• 特開平2-232364
  
• 特開昭62-290867