液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004044763
Publication number (International publication number)：2005234326
Application date： Feb. 20, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】液浸露光に適用した場合のラインエッジラフネス、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 (B)光酸発生剤 (C)下記溶媒α群から選択される少なくとも1種と下記溶剤β群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤。 α群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート β群:沸点が120°Cより高いアルコール溶剤および乳酸アルキル溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 (B)光酸発生剤 (C)下記溶媒α群から選択される少なくとも1種と下記溶剤β群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤。 α群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート β群:沸点が120°Cより高いアルコール溶剤および乳酸アルキル溶剤を含有することを特徴とする液進露光用レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (6)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/20 521 , H01L21/30 502R , H01L21/30 514E , H01L21/30 515D

F-Term (13)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特公昭57-153433号公報
パターン形成方法及びその露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-008136 Applicant：株式会社日立製作所
液浸型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-121757 Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (3)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-017355 Applicant：東京応化工業株式会社
液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、複合膜、およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-067863 Applicant：東京応化工業株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-057480 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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