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J-GLOBAL ID：200903057034267488
プラズマ処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994248767
Publication number (International publication number)：1996111297
Application date： Sep. 17, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：
【要約】【目的】 磁界を用いることなくマイクロ波だけでプラズマを発生することができるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを載置する載置台10を内部に設けた気密な処理容器4と、マイクロ波発生器42と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管、例えば円形、矩形導波管或いは同軸導波管44と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材38とを備え、この平面アンテナ部材は同心円状或いは渦巻状に形成された多数のスリット46,46A,46Bを有する。これにより、導波管を伝搬されたマイクロ波は、アンテナ部材の中心より周辺部に広がりつつスリットからマイクロ波を処理容器内に放出し、磁界によるアシストを行うことなくプラズマを安定的に生成することができる。また、この時、処理空間に略均一な電界を形成することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体を載置する載置台を内部に設けた気密な処理容器と、マイクロ波発生器と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材とを備え、この平面アンテナ部材は同心円状或いは渦巻状に形成された多数のスリットを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
