Pat
J-GLOBAL ID:200903057045606896
フッ素置換イリジウム錯体、その中間体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002067919
Publication number (International publication number):2003113163
Application date: Mar. 13, 2002
Publication date: Apr. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 発光効率が高く、耐久性に優れたフッ素置換イリジウム錯体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のフッ素置換イリジウム錯体は、次の式(1)で示され、窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウムとが錯体を形成した化合物であり、このフッ素置換イリジウム錯体の製造方法は、イリジウム(III)アセチルアセトネートと窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとを反応させ、錯体を形成させることにより得られる。【化37】但し、整数m及びnの関係が2≦m+n≦8であって、0≦m≦4かつ0≦n≦4である。
Claim (excerpt):
次の式(1)で示され、窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウムとが錯体を形成したフッ素置換イリジウム錯体。【化1】但し、整数m及びnの関係が2≦m+n≦8であって、0≦m≦4かつ0≦n≦4である。
IPC (5):
C07D213/61
, C07D213/26
, C07F 3/02
, C07F 3/06
, C07F 15/00
FI (5):
C07D213/61
, C07D213/26
, C07F 3/02 B
, C07F 3/06
, C07F 15/00 E
F-Term (25):
4C055AA01
, 4C055BA03
, 4C055BA08
, 4C055BA39
, 4C055BB14
, 4C055CA02
, 4C055CA39
, 4C055DA39
, 4C055FA03
, 4C055FA31
, 4C055GA02
, 4H048AA01
, 4H048AB84
, 4H048AB92
, 4H048VA10
, 4H048VA11
, 4H048VA12
, 4H048VA13
, 4H048VA32
, 4H048VA61
, 4H048VA67
, 4H050AA01
, 4H050AA02
, 4H050AB84
, 4H050AB92
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
特開昭64-083066
-
発光素子及びイリジウム錯体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-189539
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
発光素子、表示装置及び発光素子用金属配位化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-284599
Applicant:キヤノン株式会社
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page