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J-GLOBAL ID：200903057046676383

偏光選択膜、偏光形成方法、偏光形成装置、偏光板および液晶表示装置

Inventor： 永井 道夫
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002175930
Publication number (International publication number)：2004020943
Application date： Jun. 17, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：

【課題】吸収型偏光板の光利用効率の向上に寄与し、且つ偏光選択機能を示す波長領域が広い偏光選択膜を提供する。【解決手段】所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射する偏光選択層が複数積層されてなる偏光選択膜であって、前記複数の偏光選択層の各々の選択反射波長域が互いに異なり、前記複数の偏光選択層が各々螺旋構造を有する液晶分子からなり、前記螺旋構造の螺旋軸方向が前記層平面の略法線方向にあり、且つ前記螺旋構造の螺旋軸方向と前記液晶分子の長軸方向のなす角が5°〜85°であることを特徴とする偏光選択膜である。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射する偏光選択層が複数積層されてなる偏光選択膜であって、前記複数の偏光選択層の各々の選択反射波長域が互いに異なり、前記複数の偏光選択層が各々螺旋構造を有する液晶分子からなり、前記螺旋構造の螺旋軸方向が前記層平面の略法線方向にあり、且つ前記螺旋構造の螺旋軸方向と前記液晶分子の長軸方向のなす角が5°〜85°であることを特徴とする偏光選択膜。

IPC (4)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13357 ,  G02F1/13363

FI (4)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 510 ,  G02F1/13357 ,  G02F1/13363

F-Term (20)：

2H049BA02 ,  2H049BA03 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA24 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA23Z ,  2H091FA32Z ,  2H091FA34Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FD10 ,  2H091HA06 ,  2H091KA10 ,  2H091LA16