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J-GLOBAL ID：200903057070484290

表面処理方法

Inventor：
長澤 武

About 長澤 武


Applicant, Patent owner：
独立行政法人科学技術振興機構

About 独立行政法人科学技術振興機構


Agent (2)： 村上 友一 ,  大久保 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004110679
Publication number (International publication number)：2005288398
Application date： Apr. 05, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：
【課題】 プラズマを用いて被処理物の洗浄処理や殺菌処理を行う表面処理方法を提供する。【解決手段】 表面処理方法は、大気中にプラズマ生成装置10を置き、プラズマ生成装置10の円筒電極12内に空気や酸素等の気体を導入し、前記円筒電極12の中心部に配置した中心電極20と円筒電極12に電力を供給して、中心電極20の周囲に局所的アークにより生成したプラズマが前記円筒電極12に達しないプラズマ流を生成し、このプラズマ流に被処理物を曝して表面の洗浄処理や殺菌処理を行う構成とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
円筒電極内に気体を導入し、前記円筒電極の中心部に配置した中心電極の周囲に、局所的アークにより生成したプラズマが前記円筒電極に達しないプラズマ流を生成して、被処理物に照射することを特徴とする表面処理方法。
IPC (5)：
B01J19/08 ,  A61L2/14 ,  B08B7/00 ,  C23G5/00 ,  H05H1/32
FI (5)：
B01J19/08 E ,  A61L2/14 ,  B08B7/00 ,  C23G5/00 ,  H05H1/32
F-Term (20)：
3B116AA21 ,  3B116BC01 ,  4C058AA06 ,  4C058AA25 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK11 ,  4G075AA30 ,  4G075AA42 ,  4G075BA08 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4K053PA18 ,  4K053QA04 ,  4K053QA07 ,  4K053SA01 ,  4K053SA11 ,  4K053XA50
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 大気圧低温プラズマ殺菌方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-232016   Applicant：四国化工機株式会社, 鯉沼秀臣, 内藤寿夫
Cited by examiner (5)
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