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J-GLOBAL ID：200903057072786332

薄膜を有する基材の製造方法および薄膜を有する基材の製造装置

Inventor： 一條 力 ,  塚本 遵
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993025457
Publication number (International publication number)：1994244101
Application date： Feb. 15, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】【構成】(1) 加熱された基材に、置換または非置換のアセチレンを接触させて、該アセチレン重合体薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。(2) 容器内に、基材の加熱処理部分および置換または非置換のアセチレンを導入する部分を有することを特徴とする薄膜製造装置。【効果】本発明の薄膜を有する基材によると、基材における光反射を良好に抑止することができる。

Claim (excerpt)：

加熱された基材に、置換または非置換のアセチレンを接触させて、該アセチレン重合体薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• データ写し込み装置付カメラ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-133490   Applicant：株式会社ニコン
• カメラ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-192395   Applicant：キヤノン株式会社
• データ写し込み可能なカメラ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-104190   Applicant：オリンパス光学工業株式会社