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J-GLOBAL ID：200903057102317871

試料導入方法及び露光装置

Inventor： 長谷川 隆行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992342498
Publication number (International publication number)：1994196391
Application date： Dec. 22, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 シンプルな構成でより信頼性を高めた試料導入方法や露光装置の提供。【構成】 所定の圧力及び雰囲気純度に保たれた露光室である第1チャンバ(1)と、第1チャンバ(1)とゲート弁(3)で仕切られた第2チャンバ(2)と、第1チャンバ(1)と第2チャンバ(2)とを連通する連通経路に設けられたバルブ(18)とを備える。まずゲート弁(3)を閉じた状態でウエハが内蔵された第2チャンバ(2)を所定の圧力まで減圧して、次いで前記連通経路のバルブ19を開いて、第2チャンバと第1チャンバとの雰囲気を合わせる。この後、ゲート弁(3)を開けて、第2チャンバ(2)のウエハを第1チャンバ(1)に移送し、ウエハホルダ(24)にセットする。この状態で、X線放射源(21)からのX線を第1チャンバ(1)に導入して、マスクパターンをウエハに露光転写する。

Claim (excerpt)：

所定の圧力及び雰囲気純度を有する第1チャンバの内部に、該第1チャンバとゲート弁で仕切られた第2チャンバから試料を導入する方法であって、前記ゲート弁を閉じた状態で第2チャンバを所定の圧力まで減圧した後、第2チャンバを第1チャンバと連通し、この後、前記ゲート弁を開けて第2チャンバ内の試料を第1チャンバに導入することを特徴とする試料導入方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-276074
  
• 特開平2-149613
  
• 特開平2-077809
  
• 特開平2-077809