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J-GLOBAL ID：200903057138400155
偏光解析装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
八木田 茂 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991319423
Publication number (International publication number)：1993264440
Application date： Dec. 03, 1991
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 ガラスのような光透過性の試料の裏面からの反射光の影響を除去して試料の表面の特性を正確に測定できるようにした偏光解析装置を提供する。【構成】 本偏向解析装置は、光源部1と受光部4とを備えた光学系と試料3との相対位置を変える相対位置調整装置8を設け、試料3からの反射光の高さ方向のビーム解析に基いて相対位置調整装置8により光学系と試料3との相対位置を設定し、試料3の表面からの反射光のみが受光部4側へ入射できるように構成した。
Claim (excerpt)：
光源部と受光部とを備えた光学系を有し、一定の偏光状態にある光を光透過性の試料に入射し、反射光の偏光状態を受光部側で測定するようにした偏光解析装置において、上記光学系と試料との相対位置を変える相対位置調整装置と、試料からの反射光の高さ方向のビーム解析を行なうビーム解析手段とを有し、このビーム解析手段からの出力信号に基いて相対位置調整装置により光学系と試料との相対位置を設定し、試料の表面からの反射光のみが受光部側へ入射できるように構成したことを特徴とする偏光解析装置。
IPC (3)：
G01N 21/21
, G01B 11/06
, G01J 4/00
