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J-GLOBAL ID：200903057139741622

浄水処理装置

Inventor： 森山 忠浩 ,  岩井 俊憲
Applicant, Patent owner： 日立造船株式会社
Agent (1)： 岸本 瑛之助 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999127979
Publication number (International publication number)：2000317484
Application date： May. 10, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 処理槽における浄水処理に利用しうる容積を大きくする。処理槽の製作コストを低減する。有機物の分解効率の低下を防止する。【解決手段】 好気性微生物が付着した活性炭2を内蔵した処理槽1と、処理槽1内に配置されるろ過膜ユニット3と、処理槽1内におけるろ過膜ユニット3の下方の部分に配置される曝気装置4とを備えた浄水処理装置である。処理槽1内空間を直方体状とする。処理槽1内における各内側面21a と内底面22a との連接部である入り隅部の近傍に、攪拌用空気吹込み管23を入り隅部の長さ方向に平行に伸びるように配置する。攪拌用空気吹込み管23に、その長さ方向に間隔をおいて斜め下向きに開口した複数の空気吹出口29を形成する。

Claim (excerpt)：

好気性微生物が付着した活性炭を内蔵した処理槽と、処理槽内に配置されるろ過膜ユニットと、処理槽内におけるろ過膜ユニットの下方の部分に配置される曝気装置とを備えた浄水処理装置において、処理槽内空間が直方体状となされ、処理槽内における各内側面と内底面との連接部である入り隅部の近傍に、攪拌用空気吹込み管が入り隅部の長さ方向に伸びるように配置され、攪拌用空気吹込み管に、その長さ方向に間隔をおいて斜め下向きに開口した複数の空気吹出口が形成されている浄水処理装置。

IPC (5)：

C02F 3/08 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/20

FI (5)：

C02F 3/08 ZAB B ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 H ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/20 D

F-Term (31)：

4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003BA02 ,  4D003BA07 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003DA11 ,  4D003DA14 ,  4D003DA20 ,  4D003EA25 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31Z ,  4D006JA32A ,  4D006JA53Z ,  4D006KA12 ,  4D006KA31 ,  4D006KA66 ,  4D006KB13 ,  4D006KB25 ,  4D006MB02 ,  4D006PA02 ,  4D006PB04 ,  4D006PB05 ,  4D006PB70 ,  4D006PC64 ,  4D029AA01 ,  4D029AB06 ,  4D029AB07 ,  4D029BB11